Nano Precision Corp金属、半导体、陶瓷 高分子材料

本公司 Nano Precision Corp. 所代理之德国 Nanoscribe 公司产品，提供精巧并且容易操作的 桌上型激光直写系统。可以现行一 般市售通用的UV光刻胶，利用简单方便快速的双光子三维激光加工技术, 来实现真正的三维立体纳米结构。

另外，针对高分辨率与更高尺度三维器件的制作需求，Nanoscribe也提供特殊开发的液态光刻胶产品：IP系列光刻胶。

对于高分子材料所制作成的精密三维器件如何转化为金属、半导体、陶瓷、..... 等其他可应用材料, Nanoscribe也提供相关工艺的技术咨询服务


三维激光直写系统 Photonic Professional GT


新一代的3D激光直写系统 Photonic Professional GT 在微纳米3D打印以及无掩模光刻工艺领域树立了新的标竿。其结合了两种写入模式于一体: 超快又精准的三维压电工件台写入模式提供用户随心所欲的依照所设计的3D轨迹移动聚焦光斑进行写入; 高速扫描振镜写入模式提供最快速的模式以分层还原的方式建构器件。优秀的系统结合了专门设计的套装软件, 此设备植入了3D打印最佳工作流程并提供直接生产所需的高阶自动化。此外, Photonic Professional GT更可轻松制作高分辨率光刻掩模版与其他无掩模光刻应用。


产品特色

商用高分辨率微米级3D打印机

利用扫描振镜技术可进行高速3D打印

利用压电技术呈现高精度制造

可利用各种UV光刻胶进行双光子聚合工艺

可对一般UV正型光刻胶执行双光子光刻工艺

有效写入范围大于100 × 100 mm2

配置高灵敏度显微摄像头可进行实时监控打印过程

友善的操作软件使3D打印工作流程更具人性化

可兼容CAD的STL图档格式
World's Fastest 3D Printer for the Microscale

此扫描振镜工艺对应于典型结构设计的层进式打印工序加速了两个数量级.此速度上的优越性能，直接将需时数分钟的工作缩短成几秒钟.
Photonic Professional GT快写系统是当今世界上最快速的商业化高分辨率3D打印机, 在三维激光光刻领域拥有超过10年经验.


最高的精准度与分辨率

为了保证Nanoscribe的高精度的激光直写(DLW)工序，即使在高速写入状态下，系统的加速激光偏转样品移动激光输出强度调节等各项数据间的搭配协调必须全时获得确保! 一个结合光学匹配组件电子系统软件控制的精密复杂系统，已成功的由Nanoscribe密切合作的供货商完成开发.


大面积与高结构

为提高3D微纳米加工速度，扫描振镜技术是不可或缺的要素.为了能制作大面积的结构，另外还需要一个复杂的相邻拼接分格.这是透过高精度的三维工件台以及专利的自动对焦功能来确保.以DILL技术获得制作较高结构器件与无与伦比的高分辨率的制作工序.





众多的应用 - 住家型先进实验室

Nanoscribe的扫描振镜技术为3D微纳米尺度打印面积提升至厘米等级的创新应用提供了平顺的道路. 当然也同时保留了所有原标准系统已建构的应用在全球领先的研究机构，Nanoscribe三维激光直写系统面对解决开创性科学挑战，受到越来越多的用户群社的重视.

微光学器件

自由曲面

光子晶体/超材料

光波导线连接

仿生学/生命科学

组织工程/细胞生物学

微纳米微流道

机械性超材料

微机电系统


软件


Nanoscribe 提供了一套依照 3D 打印工艺流程所自行开发的套装软件，安装于 Photonic Professional GT。 此一套装包含了打印工作的准备工具~ “DeScribe”，以及控制整套系统的人机操作界面软件~“NanoWrite”。用户可直觉操作的人性化界面结合了对 STL 图檔格式兼容的 CAD 图型，保证了用户能更容易驾驭仪器。2.5 维器件图像档案可被导入成为可替代的灰阶光刻图型; 自动对焦功能，使仪器能轻易地找到衬底的准确位置。PerfactShape 功能以及曝光流程皆能以 NanoWrite 软件编成为完全自动化的写入流程。
Describe
DeScribe 是一个强而有力的编程工具，以在 Nanoscribe 专利的编程语言 GWL 产生打印编程。 依照 3D 打印工作流程，使能输入 3D 网格 STL 图档格式。自动化的网格修补功能，能修正一般 STL 图档加载时所发生的错误。DeScribe 软件兼具 3D 图型设计所需的图型切片以及图型产生功能。GWL 编程同时能以 DeScribe 进行 手动编写程序来个别控制激光聚焦光斑的移动以及相关写入流程。内置快速 3D 图型转译引擎提供了交互式的图型预览与相关功能设定。
NanoWrite
NanoWrite 是一个相当容易操作的图型化人机接口，以控制 Nanoscribe 三维激光直写系统。最新版本的 NanoWrite 内建超过 100 个指令能够存取所有相关工艺参数，在保持编成语言简化的同时还能够提供完整操作控制。NanoWrite 所能使用的图档，必须是以 Nanoscribe 专利的 GWL 编成语言定义的结构设计档案。有关 NanoWrite 更详尽的描述，参阅“最新信息”中相关的报导。

IP 系列光刻胶 (IP Photoresists)
为了能使 Nanoscribe 三维激光直写系统发挥最高性能 ，Nanoscribe 提供了量身订制的特殊条配的 IP 系列光刻胶 。这些负型光刻胶保证了最高分辨率 ，结合了操作简单以及多光子聚合工艺的优化效能 。 这些 IP 系列光刻胶为 Nanoscribe 仪器用户所专有的附属材料 。


产品特色

可藉由滴下涂布的操作简易光刻胶

无须后烘(post-bake)工艺流程

对应各种衬底，具有良好的黏着能力

低机械应力

具高度的机械稳定性

针对高速三维建构，具有极佳的灵敏度

所呈现最佳的特征尺度，横向线宽可达 150nm 以下


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+86 - 1850 5122 488
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